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拓荊公司自主研制的國內首臺12英寸PE-ALD設備通過客戶驗收
2018.10.15

20189月底,由電影天堂自主研制的12英寸原子層沉積(Atomic Layer DepositionALD)設備FT-300T通過了客戶的驗收。


ALD設備是集成電路制備過程中關鍵的薄膜沉積設備,被視為先進半導體工藝技術發展的關鍵環節之一。拓荊公司基于已通過生產驗證的高產能PECVD設備平臺,成功研制了國內首臺量產型12英寸ALD設備FT-300T,并迅速推向市場,可應用于超大規模集成電路,OLED及先進封裝(TSV)領域,投入28/14nm先進生產線,用于沉積SiO2SiNx等絕緣薄膜。該設備已成功進入試生產線考核驗證,歷時3個多月,通過了客戶的考核驗收,設備各項性能指標均滿足要求,且達到或超過了國際同類產品的先進水平,這是我國在實現半導體高端裝備國產化進程中的又一重大突破。

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